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本发明涉及湿法清洗技术领域，具体为一种半导体集成电路工艺用湿法清洗设备，所述湿法清洗设备包括机身、补液机构、回收机构和净化机构，所述补液机构和回收机构分别设置在机身的左右两侧，本发明相比于目前的湿法清洗设备设置有循环机构和固定机构，通过循环...
该专利属于科芯微（江苏）微电子有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过科芯微（江苏）微电子有限公司授权不得商用。

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