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本公开涉及一种基板处理方法、装置、计算机设备和存储介质。在喷液件的作用下，以及由于基板绕其中心轴线自转，能实现喷液件喷射的清洗液布满到基板的整个表面。此外，吹扫气体先喷出到基板表面的中心，气流接触到基板的表面时会向外扩，将基板表面上的水膜外...
该专利属于长鑫存储技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过长鑫存储技术有限公司授权不得商用。

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