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结晶InZnO氧化物半导体、其形成方法、和包括结晶InZnO氧化物半导体的半导体器件技术
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文档序号:41505821
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提供结晶InZnO氧化物半导体、其形成方法、和包括结晶InZnO氧化物半导体的半导体器件。结晶InZnO氧化物半导体包括包含In和Zn的氧化物,其中在电感耦合等离子体质谱法(ICP‑MS)分析中,In和Zn中的In的含量为约30原子%或更大...
该专利属于三星电子株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过三星电子株式会社授权不得商用。
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