温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本申请公开了一种半导体工艺设备及其反应腔室，属于半导体工艺技术领域。该反应腔室包括腔室主体、进气容腔以及排气容腔，进气容腔和排气容腔分别固设在腔室主体的两相对侧，且进气容腔和排气容腔均沿腔室主体的高度方向延伸；进气容腔的底部连接有进气口连接...
该专利属于北京北方华创微电子装备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京北方华创微电子装备有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。