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本申请提供了一种电阻率均匀的碳化硅膜及其制备方法，属于化学气相沉积技术领域。本发明通过使用甲基三氯硅烷作为前驱体原料，氩气作为载流气体，对掺杂气体经预热器进行预热处理并完全分解为氮原子单位形式，进入化学气相沉积室，供应浓度均匀的氮原子，从而...
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