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一种半导体结构及其制备方法技术
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文档序号:41419643
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本申请提供一种半导体结构及其制备方法,半导体结构包括:依次层叠设置的n型半导体层、功能层、p型半导体层、第一AlN层及第一n型重掺杂半导体层。第一n型重掺杂半导体层使得载流子依靠能级隧穿效应运送,改善p型半导体层的接触电阻、改善电流扩散;制...
该专利属于无锡晶湛半导体有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过无锡晶湛半导体有限公司授权不得商用。
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