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本发明提供成膜装置、基板处理装置、成膜方法。成膜装置在真空容器内将相互反应的至少２种反应气体按顺序供给到基板表面上且执行该供给循环而层叠多层反应生成物的层从而形成薄膜。该成膜装置包括：旋转台、基板载置区域、第１反应气体供给部、第２反应气体供...
该专利属于东京毅力科创株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。

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