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本发明涉及基板处理装置和基板处理方法。提供去除药液的残渣的技术。基板处理装置具备基板保持部、旋转驱动部、第1旋转环、第2旋转环以及第1喷嘴。基板保持部包括水平的底板和抓持基板的周缘的多个把持部，利用多个把持部以使基板从底板分离开的方式将基板...
该专利属于东京毅力科创株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。

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