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一种用于间隔物图案化的方法包括：执行沉积工艺，所述沉积工艺包括在刚沉积在图案化芯轴层的顶表面和所述图案化芯轴层的侧壁上的间隔物层之上共形地沉积上覆层；以及使用含氟蚀刻气体执行蚀刻工艺。所述蚀刻工艺包括：沉积后穿透工艺，所述沉积后穿透工艺去除...
该专利属于应用材料公司所有，仅供学习研究参考，未经过应用材料公司授权不得商用。

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