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等离子体处理装置具有腔室、电源、硅部件和导电膜。腔室提供等离子体处理空间。电源能够向等离子体处理空间内供给用于生成等离子体的高频电功率。硅部件由含硅材料构成，配置在腔室的内部，具有面向等离子体处理空间的第一面。导电膜由导电性材料构成，形成在...
该专利属于东京毅力科创株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。

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