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本发明提供一种工艺腔室及半导体设备，包括腔室壳体、设置于腔室壳体内的上电极装置和下电极装置，上电极装置包括进气结构，进气结构的出气口周边设置有接地结构，接地结构包括接地部件和功能部件，接地部件的材质包括导电材质，接地部件与腔室壳体电导通；功...
该专利属于北京北方华创微电子装备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京北方华创微电子装备有限公司授权不得商用。

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