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描述了一种用于操作等离子体室以在蚀刻操作期间增加离子能量并减少离子角扩散的方法。方法包括将衬底放置在等离子体室内的静电卡盘上，其中静电卡盘电耦合到节点。方法还包括在等离子体室中形成等离子体，其中等离子体产生具有第一鞘电压的鞘。该方法进一步包...
该专利属于朗姆研究公司所有，仅供学习研究参考，未经过朗姆研究公司授权不得商用。

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