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本技术公开了一一种用于等离子刻蚀的夹紧装置,涉及光电技术领域,旨在解决方便对硅片夹紧的技术问题。其技术方案要点是:包括下夹板与上夹板,所述下夹板的两侧壁设置有竖直的支杆,所述支杆的开设有贯穿其顶部的滑动槽,所述滑动槽内滑动连接有滑动杆,所述...该专利属于嘉芯闳扬半导体设备科技(浙江)有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过嘉芯闳扬半导体设备科技(浙江)有限公司授权不得商用。
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本技术公开了一一种用于等离子刻蚀的夹紧装置,涉及光电技术领域,旨在解决方便对硅片夹紧的技术问题。其技术方案要点是:包括下夹板与上夹板,所述下夹板的两侧壁设置有竖直的支杆,所述支杆的开设有贯穿其顶部的滑动槽,所述滑动槽内滑动连接有滑动杆,所述...