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本发明通过包含氢卤酸、其盐及其衍生物的微电子清洗组合物提供了用于清洗微电子基板的微电子清洗组合物，尤其是用于微电子基板并且对微电子基板以及镀Ａｌ或Ａｌ（Ｃｕ）的基板和先进的互连技术具有改进的相容性的清洗组合物，所述微电子基板的特征在于二氧化...
该专利属于马林克罗特贝克公司所有，仅供学习研究参考，未经过马林克罗特贝克公司授权不得商用。

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