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本发明提供一种基板处理控制方法，其在基板具有２种微小构造的情况下，也能够严格地控制微小构造中的形状的尺寸。该基板处理控制方法，针对存储单元（８３）的每个ＣＤ值，使用ＲＣＷＡ计算得到来自存储单元（８３）的反射率的光谱，并且使用标量分析计算得到...
该专利属于东京毅力科创株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。

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