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一种提高Ｃｏ／Ｃｕ／ＮｉＦｅ／ＦｅＭｎ自旋阀结构多层膜结构中偏置场稳定性的方法，属磁电子学和磁记录技术领域。一种提高磁性多层膜结构中偏置场稳定性的方法，属磁电子学和磁记录技术领域。它包括以下步骤：（１）沉积制作Ｃｏ／Ｃｕ／ＮｉＦｅ／ＦｅＭｎ...
该专利属于南京航空航天大学所有，仅供学习研究参考，未经过南京航空航天大学授权不得商用。

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