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本申请涉及一种热处理装置。该热处理装置包括等离子体电源和可容纳目标工件的真空室，该等离子电源的正极与该真空室的外壁连接，该等离子体电源的负极与该目标工件连接；该等离子体电源，用于输出直流脉冲电压，以在该真空室内产生复合式放电，以对该目标工件...
该专利属于清华大学所有，仅供学习研究参考，未经过清华大学授权不得商用。

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