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本发明涉及一种沉积掩模及其制造方法。一个实施方案涉及提供通过改善金属板的氧化膜的厚度和品质二者来改善金属板与光致抗蚀剂之间的粘附性并改善通孔的蚀刻品质的方法。一个实施方案涉及提供沉积掩模及其制造方法，所述沉积掩模可以控制在从金属板的表面起约...
该专利属于LG伊诺特有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过LG伊诺特有限公司授权不得商用。

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