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本发明提供一种半导体制造装置的清洗装置及清洗方法，能够进行比以往效率高的清洗作业，并且能够得到更好的清洗效果。所述半导体制造装置的清洗装置（１００）具有由纯水生成纯水水蒸气的纯水水蒸气生成容器（２）、将纯水水蒸气供给到被清洗部位的供给口（５...
该专利属于东京毅力科创株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。

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