【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种半导体制造装置的清洗装置，其特征在于，具有： 纯水水蒸气生成容器，其由纯水生成纯水水蒸气； 供给口，其将纯水水蒸气供给到被清洗部位； 供给管路，其连接上述纯水水蒸气生成容器和上述供给口； 回收口，其设置于上述供给 口的周围，从被清洗部位回收在清洗中使用后的使用完毕水蒸气； 回收容器，其使使用完毕水蒸气凝结并回收；以及 回收管路；其连接上述回收口和上述回收容器。
【技术特征摘要】
...
【专利技术属性】
技术研发人员：小久保峰幸，山涌纯，守屋刚，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]
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