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本文所述的实施方式提供了一种腔室，该腔室具有气流入口引导器以均匀地输送处理气体。该气流入口引导器具有带开口的流引导器底板。顶板设置在该流引导器底板上方，并且等离子体阻挡器设置在开口上方。该等离子体阻挡器包括一个或更多个孔隙，该一个或更多个孔...
该专利属于应用材料公司所有，仅供学习研究参考，未经过应用材料公司授权不得商用。

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