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本公开涉及一种托盘和等离子体增强化学气相沉积设备，该托盘用于容置晶圆片，所述托盘(100)构造为矩形，并且所述托盘(100)的一侧形成有向内凹陷的容置槽(110)，所述容置槽(110)用于容置所述晶圆片，所述容置槽(110)的数量为四个且呈...
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