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用于悬浮抛光的基盘制造技术
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下载用于悬浮抛光的基盘的技术资料
文档序号:4117400
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一种用于悬浮抛光的基盘,包括基盘本体,所述基盘本体和研磨盘之间设有工作间隙,所述基盘本体呈圆环,其特征在于:在所述基盘本体的底部设有楔形槽,所述楔形槽呈径向布置,所述楔形槽的外圆端与所述基盘本体的底面相接,所述楔形槽的内圆端内凹,多个楔形槽...
该专利属于浙江工业大学所有,仅供学习研究参考,未经过浙江工业大学授权不得商用。
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