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量测方法和装置制造方法及图纸
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文档序号:41132593
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公开一种量测方法和相关联的装置。所述方法包括:获得第一图像,所述第一图像受到用于获取所述图像的光学系统的一个或更多个非等晕像差的影响;和通过执行以下各项中的一项或两项以针对所述一个或更多个非等晕像差的影响来非迭代地校正所述第一图像:在场空间...
该专利属于ASML荷兰有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过ASML荷兰有限公司授权不得商用。
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