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本申请公开了一种工艺腔室、半导体工艺设备及其控制方法，涉及镀膜设备技术领域，所公开的工艺腔室包括腔室主体，腔室主体包括第一腔室和第二腔室，第二腔室设于第一腔室内，第二腔室用于容纳承载舟。通过在第一腔室内增设第二腔室，使得承载舟以及反应气体均...
该专利属于北京北方华创微电子装备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京北方华创微电子装备有限公司授权不得商用。

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