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本发明涉及光刻技术领域,具体公开了一种光刻胶打胶系统及打胶方法,其中,光刻胶打胶系统包括控制器及依次通过管路连接的供压组件、光刻胶罐、缓冲罐、排泡过滤组件、回吸阀及喷嘴;排泡过滤组件和回吸阀之间的管路上设有流量计,光刻胶罐为两个,且两者之间...该专利属于广州市艾佛光通科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过广州市艾佛光通科技有限公司授权不得商用。
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本发明涉及光刻技术领域,具体公开了一种光刻胶打胶系统及打胶方法,其中,光刻胶打胶系统包括控制器及依次通过管路连接的供压组件、光刻胶罐、缓冲罐、排泡过滤组件、回吸阀及喷嘴;排泡过滤组件和回吸阀之间的管路上设有流量计,光刻胶罐为两个,且两者之间...