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一种在衬底上沉积含硼膜的方法和设备技术
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文档序号:41094580
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可使用远程等离子体化学气相沉积(CVD)技术沉积硼氮化物膜、硼碳化物膜、或硼碳氮化物膜。将含硼前体提供至反应室,其中含硼前体具有与氢原子键合的至少一个硼原子。例如氢自由基物质之类的自由基物质从远程等离子体源以基本上低能态或基态提供并且进入反...
该专利属于朗姆研究公司所有,仅供学习研究参考,未经过朗姆研究公司授权不得商用。
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