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由于掩模检查晶片可以利用与生产晶片不同的工艺，所以可以利用具有较低光瞳填充比(PFR)的高对比度照射设置，其导致扫描仪的生产率降低。通过选择不同于在生产晶片上使用的高对比度照射设置，可以实现颗粒可印刷性与随机缺陷的比率的提高。组合地，或者替...
该专利属于ASML荷兰有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过ASML荷兰有限公司授权不得商用。

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