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气体供应装置及外延设备制造方法及图纸
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文档序号:41020105
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本申请提供了一种气体供应装置及外延设备,气体供应装置包括:第一供气单元;第二供气单元;气量控制单元,与第一供气单元和第二供气单元连通,用于在第一供气单元剩余气量小于一阈值时,逐渐减小第一供气单元的第一供气量,同时开启并逐渐增加第二供气单元的...
该专利属于杭州富芯半导体有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过杭州富芯半导体有限公司授权不得商用。
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