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一种用于光刻设备的表膜隔膜，其中，所述表膜隔膜包括金属硅化物和增强网络。所述增强网络可以位于金属硅化物层之间。所述增强网络可以是不规则的。所述增强网络包括最大尺寸为高达20微米的窗口。所述增强网络包括平均尺寸为至少5微米的窗口。...
该专利属于ASML荷兰有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过ASML荷兰有限公司授权不得商用。

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