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一种基板处理装置包括：具有闸的腔室，基板通过闸被装载到腔室中以及从腔室卸载；气体供应单元，其在腔室中的上部中并且被配置为将气体供应到腔室中；旋涂器，其在腔室中的下部中并且包括旋转卡盘和杯部，旋转卡盘被配置为在其上表面上支撑和旋转基板，杯部围...
该专利属于三星电子株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过三星电子株式会社授权不得商用。

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