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一种半导体结构,提供半导体装置内的隔离。上述结构包括第一隔离结构,包括设置在基底上的第一隔离层、设置在第一隔离层上的第二隔离层以及具有第一高度并设置在第二隔离层上的第一高k值介电层。上述结构也包括第二隔离结构,包括设置在基底上的第三隔离层、...该专利属于台湾积体电路制造股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过台湾积体电路制造股份有限公司授权不得商用。
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一种半导体结构,提供半导体装置内的隔离。上述结构包括第一隔离结构,包括设置在基底上的第一隔离层、设置在第一隔离层上的第二隔离层以及具有第一高度并设置在第二隔离层上的第一高k值介电层。上述结构也包括第二隔离结构,包括设置在基底上的第三隔离层、...