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一种等离子体处理腔室包含一个或多个侧壁并且在侧壁内的支撑表面固持工件。独立气体注入器的阵列围绕侧壁分布。泵送口沿着侧壁以从腔室喷射气体。在工件上的材料的蚀刻速率均匀性通过以下步骤控制：使用阵列气体注入器跨工件注入一个或多个气体流；从相邻独立...
该专利属于应用材料公司所有，仅供学习研究参考，未经过应用材料公司授权不得商用。

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