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本发明公开了一种磁控溅射真空镀膜装置，包括安装在镀膜腔室内的旋转架和安装在镀膜腔室侧壁上的一组以上靶材组件，旋转架上安装有多块用于放置基片的矩形挂板，多块矩形挂板环绕旋转架的转动轴线均匀间隔布置，各组靶材组件包括两靶并排设置的靶材，每靶靶材...
该专利属于湘潭宏大真空技术股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过湘潭宏大真空技术股份有限公司授权不得商用。

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