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本技术公开了一种清洗设备，包括：机体及喷淋组件，机体内具有清洗腔，清洗腔用于放置被清洗件，喷淋组件包括喷淋主体、喷淋板及分水件，喷淋板设于喷淋主体内且与喷淋主体限定出容纳腔，喷淋板上形成有均匀分布的多个喷淋孔，喷淋组件通过喷淋孔与清洗腔连通...
该专利属于中环领先（徐州）半导体材料有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中环领先（徐州）半导体材料有限公司授权不得商用。

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