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本发明提供一种基板处理设备，其包括多个处理单元、排气路径、气体处理装置和控制器。从通过使用化学产品来处理基板的多个处理单元排出的气体流经排气路径。气体处理装置去除气体中的目标成分，并且包括管道、分隔板、液体供给单元和浓度检测单元。管道具有流...
该专利属于东京毅力科创株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。

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