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本技术提供一种真空平台治具和真空吸附装置,涉及真空吸附技术领域,该真空平台治具包括底座,每个底座的一侧表面开设有多个真空吸附孔,用于吸附基板,且每个所述底座上还设置有汇流腔,每个所述汇流腔与多个每个所述真空吸附孔连通,每个所述底座的另一侧表...该专利属于甬矽电子(宁波)股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过甬矽电子(宁波)股份有限公司授权不得商用。
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本技术提供一种真空平台治具和真空吸附装置,涉及真空吸附技术领域,该真空平台治具包括底座,每个底座的一侧表面开设有多个真空吸附孔,用于吸附基板,且每个所述底座上还设置有汇流腔,每个所述汇流腔与多个每个所述真空吸附孔连通,每个所述底座的另一侧表...