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本发明涉及一种载盘装置及等离子蚀刻设备。载盘装置，包括载盘，载盘设有若干承载部，各承载部分别与载盘伸缩连接，承载部被配置为承载待蚀刻晶圆。各承载部与载盘界定出一容置腔和若干缓冲腔，各缓冲腔分别与容置腔连通，容置腔内容置有承载介质，各缓冲腔为...
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