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基于氧化镓衬底的环栅场效应晶体管及其制备方法技术
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下载基于氧化镓衬底的环栅场效应晶体管及其制备方法的技术资料
文档序号:40832166
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本公开提供了一种基于氧化镓衬底的环栅场效应晶体管及其制备方法,该环栅场效应晶体管包括:N型掺杂的氧化镓衬底;柱状沟道,形成于氧化镓衬底,适用于为电流流动提供通道;第一绝缘层,设置在氧化镓衬底上环绕于柱状沟道周围的区域;栅极介质层,设置在第一...
该专利属于中国科学院半导体研究所所有,仅供学习研究参考,未经过中国科学院半导体研究所授权不得商用。
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