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本申请涉及制造用于有机发光二极管沉积的沉积掩模的方法，包括：准备具有长轴和短轴的金属板；以拉力沿长轴方向拉拔金属板；在被拉拔的金属板上形成包括光致抗蚀剂层的掩模图案；形成穿透被拉拔的金属板的一个表面和另一表面的多个通孔。金属板包括沿长轴方向...
该专利属于LG伊诺特有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过LG伊诺特有限公司授权不得商用。

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