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本申请提供一种半导体工艺腔室，包括腔室本体和进气机构；进气机构位于腔室本体的顶部，用于向腔室本体内输送工艺气体，进气机构包括进气板、进气调节板以及调节机构；进气板与腔室本体的顶部相连，并具有沿厚度方向贯穿的喷嘴，进气调节板设有与喷嘴位置相对...
该专利属于北京北方华创微电子装备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京北方华创微电子装备有限公司授权不得商用。

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