温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本揭露揭示一种光阻剂溶液、使用光阻剂溶液的方法及改良光阻剂效能的方法，尤其是用于减小使一金属光阻剂显影需要的辐射剂量的方法及材料。在显影期间，该金属光阻剂曝露至一添加剂，该添加剂包含(i)具有一或多个取代基的一个芳族基，该一或多个取代基具有...
该专利属于台湾积体电路制造股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过台湾积体电路制造股份有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。