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本发明提供能够抑制使用超临界状态的处理流体对基片进行处理的基片处理装置的处理容器内的颗粒的滞留的基片处理装置和基片处理方法。一个实施方式的基片处理装置包括：处理容器；供给管线；排出管线；设置在排出管线中的调节阀；和控制部，其能够通过调节调节...
该专利属于东京毅力科创株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。

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