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目标处理设备和目标处理方法技术
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文档序号:40701851
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本发明公开了一种目标处理方法,包括:将目标移入处理室中;使用包括碳的第一离子和包括碳的第一等离子体中的至少一者在目标上形成包括碳的膜;以及通过第二等离子体与膜之间的反应去除膜,其中,在不从处理室去除目标的情况下,在处理室中交替地多次执行膜的...
该专利属于铠侠股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过铠侠股份有限公司授权不得商用。
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