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本发明涉及晶圆生产技术领域，具体提供一种晶圆清洗装置及晶圆清洗方法，装置包括底座、总支架、传输机构、抛光机构、出浆机构以及清洁机构，总支架固接于底座顶壁，传输机构、抛光机构、出浆机构以及清洁机构均设于总支架上。本发明可实现传动槽的间歇性运动...
该专利属于中国科学院长春光学精密机械与物理研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院长春光学精密机械与物理研究所授权不得商用。

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