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本发明提供一种等离子体侧线圈调整结构及半导体设备,所述等离子体侧线圈调整结构包括底座,当需要对侧线圈高度进行调整来改变反应腔室中心及四周区域的电磁场分布来改善工艺效果时,先上下拉动调整环,使调整环带动夹持块上下移动,同时带动侧线圈进行上下移...该专利属于盛吉盛(宁波)半导体科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过盛吉盛(宁波)半导体科技有限公司授权不得商用。
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本发明提供一种等离子体侧线圈调整结构及半导体设备,所述等离子体侧线圈调整结构包括底座,当需要对侧线圈高度进行调整来改变反应腔室中心及四周区域的电磁场分布来改善工艺效果时,先上下拉动调整环,使调整环带动夹持块上下移动,同时带动侧线圈进行上下移...