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本技术涉及一种CVD镀膜装置，包括反应炉、镀膜管道、基体盒和镀料盒，反应炉的外部安装有保护壳，反应炉的底部安装有控制器，反应炉的一侧连通有抽真空管，镀膜管道固定连接于反应炉内部的中央，且镀膜管道的左右两端分别贯穿反应炉的左右两端，镀膜管道表...
该专利属于湖北江海行纳米科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过湖北江海行纳米科技有限公司授权不得商用。

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