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本发明公开了一种用于晶圆上光刻胶的烘烤装置，所述烘烤装置为密闭式结构，烘烤装置的顶板上设有排气口，所述烘烤装置内设有若干烘烤腔，烘烤腔的底部设有加热板，待烘烤的晶圆置于加热板的上方，所述烘烤腔的顶部中央设有用于排出晶圆上光刻胶加热产生的挥发...
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