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本发明的目的在于，在腔室的内部空间内，在以衬底保持部保持着半导体晶圆等衬底的状态下，执行基于加热气体的衬底的加热及衬底的周缘部的处理的衬底处理装置中，一边抑制用来获得加热气体的加热机构的热影响一边高精度地观察衬底的周缘部。在所述发明的衬底处...
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