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本发明的目的在于提供一种能避免因处理液的漏液引起的不良影响而稳定地进行衬底处理的衬底处理装置。在所述发明的衬底处理装置中，腔室以由底壁、从底壁的周围立设的侧壁、及覆盖侧壁的上端部的顶壁覆盖内部空间的方式构成。从所述底壁朝铅直上方立设多个基座...
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